手艺特点
在半导体制造中，，， ，，光罩（Mask，，， ，，也称Reticle）用于批量转移电路设计图形到芯片上，，， ，，承载了图形设计和工艺手艺等要害信息，，， ，，光罩上的图形过失、颗 ；；；；；；鄣热毕荻蓟嵊跋彀氲继逯圃斓牧悸式档，，， ，，进而影响到芯片的性能和可靠性 。。 。。。。维普STORM 3000系列光罩检测装备，，， ，，适用于Mask shop、FAB工厂对光罩出厂检测及按期监控 。。 。。。。关于图形缺陷、软缺陷、Haze、Glass面及Pellicle面举行准确检测 。。 。。。。
STORM 5000
STORM 5000?是维普第4代掩模图形缺陷检测装备，，， ，，基于STORM 3000的手艺积累及乐成履历，，， ，，在光学成像、算法、算力等方面进一步提升，，， ，，可知足更高制程的Mask制造 ；；；；；；支持PSM、Binary 掩模检测，，， ，，适配 ArF 与 KrF对应的手艺节点 。。 。。。。
应用场景
为Mask shop及晶圆制造提供高效的Reticle检测计划
要害特征
- 基于深紫外DUV激光的超高区分率光学系统
- 支持反射光、透射光同时检测
- 支持DD、SL、DB检测模式
- 支持RSP 150/200片盒
- 支持GDS、OASIS、MEBES文件名堂
- 支持OPC图形检测
- 支持GPU漫衍式盘算
STORM 3000
STORM 3000?是维普第三代IC Mask缺陷检测产品，，， ，，经由数年一直测试与一连刷新，，， ，，STORM 3000已取得业界头部客户的评估认可 。。 。。。。STORM 3000基于先进的激光成像手艺与高迅速度的软件算法，，， ，，可具备DB、DD、SL等检测模式，，， ，，适用于Mask Shop、FAB对光罩生产历程、出货及按期检测的需求，，， ，，具有高精度、高效率、易使用等重大优势 。。 。。。。
应用场景
为Mask shop及晶圆制造提供高效的Reticle检测计划 。。 。。。。
要害特征
- 基于UV激光的超高区分率光学系统
- 支持反射光、透射光同时检测
- 支持DD、SL、DB检测模式
- 支持SMIF Pod、Nikon CASE、Canon CASE及Shipping Box等片盒
- 支持GDS、OASIS、MEBES文件名堂
- 支持OPC校正
- 支持GPU漫衍式盘算
IRIS-530
IRIS-530是维普推出的针对IC Mask双外貌颗粒检测装备，，， ，，系统接纳上下两组光学系统与明场、暗场照明模式 。。 。。。。？？？ ？？赏奔觳釶ellicle及Glass面的颗粒及脏污检测，，， ，，适用于Mask shop出货检测、FAB厂一样平常监控 。。 。。。。
应用场景
为Mask shop出货检测、FAB Reticle按期监控提供高效、低本钱的检测计划 。。 。。。。
要害特征
- 同时检测玻璃面、pellicle面颗粒
- 可兼容RSP200、Nikon Case、水晶盒的开盒与自动上下板
- 基于明场+暗场的检测方法
- pellicle面、glass面、膜框内外部检测区域可无邪设置
- 缺陷位置与图形位置关系可视化展示
- 设置气浴风刀，，， ，，可对外貌颗粒举行扫除
STORM 3000U
STORM 3000U是维普新一代针对IC Mask基板缺陷检测产品，，， ，，基于已被认可的STORM 3000平台架构，，， ，，在光学成像、传输及缓存举行响应的优化、以提升易用性及降低装备本钱 。。 。。。。适用于Mask Blank基板生产、出货及Mask shop来料检测需求，，， ，，针对200nm检测精度，，， ，，具有高效率、易使用、低本钱等重大优势 。。 。。。。
应用场景
为IC Mask基板制造、IC Mask shop来料检测提供高效、低本钱的检测计划 。。 。。。。
要害特征
- 基于激光的超高区分率光学系统
- 支持SMIF Pod自动上下料
- 支持颗粒、划伤、针孔、脏污检测
- 支持自动Review及缺陷分类
- 支持抛光板、铬板及匀胶后检测
- 支持基板自动分级及缓存
